網(wǎng)訊：2011年11月30日，上海——今天，應(yīng)用材料公司推出全新的Applied Producer® Onyx™薄膜處理系統(tǒng)，以降低半導(dǎo)體芯片的功耗。該突破性技術(shù)通過優(yōu)化隔離芯片中長達(dá)數(shù)英里互聯(lián)導(dǎo)線的低介電常數(shù)薄膜的分子結(jié)構(gòu)，使客戶在拓展至22納米及更小技術(shù)節(jié)點時能夠繼續(xù)不遺余力地制造出更快、更節(jié)能的邏輯器件。

　　應(yīng)用材料公司副總裁兼介質(zhì)系統(tǒng)及模塊事業(yè)部總經(jīng)理Bill McClintock表示：“互聯(lián)導(dǎo)線消耗了近三分之一的芯片功率，降低這部分功耗對于提高先進(jìn)邏輯器件的性能、延長電池壽命至關(guān)重要。Onyx系統(tǒng)具有獨特的處理能力，能夠?qū)崿F(xiàn)業(yè)界最節(jié)能的互聯(lián)；同時能夠提高介質(zhì)的機械強度，使得芯片更加堅固，能夠更好地承受來自新興三維封裝應(yīng)用的考驗。目前，多套Producer Onyx系統(tǒng)已在進(jìn)行試生產(chǎn)，用于先進(jìn)邏輯器件的制造。”

　　隨著每個技術(shù)節(jié)點的不斷變小，互聯(lián)導(dǎo)線之間的距離變得越來越近，使得相鄰互聯(lián)導(dǎo)線之間產(chǎn)生寄生電容或串?dāng)_的可能性也隨之增加，這會耗能并減緩開關(guān)速度。通過降低隔離及支撐這些結(jié)構(gòu)的絕緣材料的介電常數(shù)來降低寄生電容，是確保持續(xù)改善性能和電池壽命的重要途徑。

　　應(yīng)用材料公司具有專*保護(hù)的Onyx技術(shù)通過在多孔介質(zhì)薄膜中填充碳和硅材料，在原子量級對該隔離材料進(jìn)行加固。該處理工藝將介電常數(shù)降低20%之多，從而大幅降低了芯片功耗。此外，該工藝還提高了介質(zhì)薄膜的硬度，使其能夠承受數(shù)以百計后續(xù)工藝和封裝步驟的考驗。

　　應(yīng)用材料公司（納斯達(dá)克：AMAT）是一家全球領(lǐng)先的高科技企業(yè)。應(yīng)用材料的創(chuàng)新設(shè)備、服務(wù)和軟件被廣泛應(yīng)用于先進(jìn)半導(dǎo)體芯片、平板顯示器和太陽能光伏產(chǎn)品制造產(chǎn)業(yè)。我們的技術(shù)使智能手機、平板電視和太陽能面板等創(chuàng)新產(chǎn)品以更普及、更具價格優(yōu)勢的方式惠及全球商界和普通消費者。在應(yīng)用材料，我們應(yīng)用今天的創(chuàng)新去成就明天的產(chǎn)業(yè)。欲了解更多信息，請訪問www.appliedmaterials.com。