產品說明：

在實際的開發(fā)和質量控制應用中，Palas®的MFP過濾器測試臺已經在世界各地經過多次驗證。

MFP Nanoplus專門設計用于根據DIN EN 1822-3和ISO 29463-3標準***測定HEPA和ULPA過濾介質的分離效率而計。U-SMPS形式、現代且功能強大的納米顆粒測量設備可將用于5 nm到1 µm范圍粒度測量和量化分析。

借助通用氣溶膠發(fā)生器UGF 2000，可以用DEHS或鹽（NaCl / KCl）生產與MMPS范圍相匹配的準確氣溶膠分布。

由于采用可移動稀釋液級聯，因此可以在非常短的時間內將測試設備從使用鹽霧劑轉換為DEHS霧劑，而無需清洗。

測試序列的高度自動化設置以及清晰定義的單個組件和濾波器測試軟件FTControl的可單獨調整程序相結合，共同提供高度可靠的測量結果。

MFP過濾器測試臺是用于扁平過濾器介質和小微型過濾器的模塊化過濾器測試系統(tǒng)�？梢栽诤芏痰臅r間內確定壓力損失曲線、餾分分離效率或負荷，既可靠又具有成本效益。

我們的質量細節(jié)

1.使用UGF 2000產生多種氣溶膠，例如使用KCl/NaCl或DEHS。集成的硅膠干燥長管。通過質量流量控制器單獨調節(jié)產生的氣霧體積流量。

2.氣溶膠中和：Kr 85-370電源或軟X射線充電器XRC 370電暈放電（可選）：可調節(jié)離子流以適應不同質量流量�？烧{混合空氣，流入速度為1.5至40厘米/秒。通過質量流量控制器實現監(jiān)視和控制。

3.可移動的氣動過濾器支架，用于快速拆卸和裝載測試裝置。

4.可移動的稀釋液級聯：稀釋液級聯可以按規(guī)定的10、100、1,000和10,000因子對所施加的測試氣霧劑進行規(guī)定的稀釋。由于它們是可移動的，因此可以在很短時間內將測試設備從使用鹽霧劑轉換為DEHS霧劑。無需長時間或復雜地清潔系統(tǒng)。

5.用于納米顆粒測量的U-SMPS

Palas®過濾器測試軟件FTControl控制U-SMPS并評估數據。

將氣溶膠分布調整到MPPS范圍

通過適當調整溶液濃度，可以將生成的粒度分布與MFP Nano plus中的相關MPPS范圍匹配。

圖1：使用DEHS調整所需MPPS范圍的粒徑

圖2：比較140 nm粒徑MPPS范圍內的餾分分離效率

•    清晰展示整個測量范圍內過濾介質的分離效率
•    ***測定MPPS范圍
•    *高的測量重現性和可重復性突出顯示分離效率的微小差異
•    優(yōu)化的應用程序將每次分離效率測量的測量時間縮短到6分鐘左右
•    分離效率曲線的簡單比較，也可以計算平均值

自動化：

MFP Nano +集成有質量流量控制器，可用于控制體積流量；可以通過FTControl過濾器測試軟件自動監(jiān)視和控制這些流量。在過濾器測試期間，還會自動記錄傳感器數據，例如過濾器流量和壓差。在沒有稀釋系數與分離效率（10、100、1,000或10,000）相匹配的過濾介質情況下進行原始氣體測量。然后，在不稀釋并插入過濾介質的情況下進行清潔氣體測量。稀釋系數的改變是自動執(zhí)行的。

稀釋系數的驗證：

集成在MFP Nanoplus中的稀釋系統(tǒng)的工作原理與采用噴射原理的成熟的VKL系列相同。 這種稀釋級聯的優(yōu)點是傳輸過程清晰、污染程度低而且容易清洗。

圖3：將原始氣體/清潔氣體與10倍NaCl顆粒進行比較來驗證稀釋系統(tǒng)數

•    使用MFP Nanoplus，可以在MPPS范圍內以及整個測量范圍內進行餾分分離效率測量。 另外，在相關的流入速度下，清楚地確定介質相關壓力損失。

優(yōu)點：

應用領域：