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店鋪基本資料信息
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E-CELL的EDI 采用模塊化技術(shù),通過不同數(shù)量的模塊搭配,可以適應(yīng)各種水處理要求。其為發(fā)電、半導(dǎo)體、微電子、化工以及制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供有力保障。
EDI 利用傳統(tǒng)的離子交換樹脂將水中的污染離子去除,其ZD的優(yōu)點在于: EDI 技術(shù)采用直流電迫使污染離子持續(xù)的從進(jìn)水中遷移出來,并穿過離子床和離子交換膜進(jìn)入濃水室。同時直流電能夠?qū)⑺肿与婋x成氫離子和氫氧根離子,持續(xù)的對樹脂進(jìn)行再生。因此 EDI 可以連續(xù)、可預(yù)知的生產(chǎn)出等同甚至優(yōu)于混床出水的高純水
一、技術(shù)參數(shù)
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裝運重量: |
92kg |
尺寸(寬*高*厚): |
30cm*61cm*48cm |
進(jìn)水參數(shù) |
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總可交換陰離子(ppm以CaCO3計): |
<25 |
電導(dǎo)率: |
<43us/cm |
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PH: |
5-9 |
溫度: |
4.4-40攝氏度 |
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硬度(ppm以CaCO3計): |
<1.0 |
二氧化硅(ppm以SiO2計): |
<1.0 |
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TOC(ppm): |
<0.5 |
濁度(NTU): |
<1.0 |
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色度(APHA): |
5 |
余氯(ppm): |
<0.05 |
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Fe,Mn,H2S(ppm): |
<0.01 |
氧化劑: |
未檢出 |
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油脂: |
未檢出 |
SDI (15min): |
<1.0 |
出水水質(zhì) |
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電阻率: |
>10MOhm.cm |
TOC(以C計,ppb): |
<500 |
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PH: |
6.5-8 |
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工作參數(shù) |
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標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)水量(M3/H): |
4.1 |
產(chǎn)水量范圍(M3/H): |
1.6-4.6 |
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回收率: |
87-95% |
濃水流向: |
逆流 |
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是否加鹽: |
否 |
電壓(VDC): |
0-300 |
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電流(ADC): |
0-5.2 |
進(jìn)水壓力(bar): |
4.1-6.2 |
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標(biāo)準(zhǔn)壓降(bar): |
1.4-2.4 |
1h高溫消毒次數(shù): |
160 |
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消毒溫度: |
80-85攝氏度 |
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二、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI應(yīng)用市場
1、半導(dǎo)體、電子、陽能
2、化工、鋼鐵、冶金
3、發(fā)電(鍋爐給水)
4、 制藥(高溫制藥用模塊)
5、 實驗室(Mini 模塊)
三、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI主要特點:
SUEZ EDI 的特點
1、濃水室添加樹脂,電耗低
2、逆流運行,降低結(jié)垢傾向
3、出水水質(zhì)高,長期運行穩(wěn)定
4、無需向濃水室加鹽和濃水 循環(huán),簡化了系統(tǒng)設(shè)計
四、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI的儲存條件:
MK-3PharmHT模塊應(yīng)在室內(nèi)儲存,避免陽光直射,儲存溫度在33ºF(1℃)至109ºF(43℃)之間。
MK-3PharmHT模塊里面的膜必須保持濕潤。如果儲存三天以上,模塊必須裝滿水。為了能保存更長時間比如說一年,必須排出E-Cell-3X模塊里的水,并將管口蓋上,以保持濕潤。任何時候儲存模塊時, 必須使其后面的管口向上。
四、MK-3PharmHT熱消高溫模塊EDI的停機步驟:
MK-3PharmHT模塊短期停機
如果擬將系統(tǒng)停機一段時間,且管道允許系統(tǒng)排水,則必須關(guān)閉某些手動閥。它們包括如下所述:
1. 關(guān)閉淡水進(jìn)口閥。
2. 關(guān)閉淡水出口閥。
3. 關(guān)閉淡水產(chǎn)水沖洗閥。
4. 關(guān)閉濃水排放閥。
5. 關(guān)閉極水出口閥。
MK-3PharmHT模塊長期停機
如果MK-3PharmHT模塊擬停機三天以上,它們必須為長期停機作準(zhǔn)備并存儲模塊,以阻止生物群的生長。
注:為長期停機作準(zhǔn)備的所有步驟期間,MK-3PharmHT模塊必須斷電!
注意:
1. 必須關(guān)閉MK-3PharmHT模塊的電源。
2. 允許MK-3PharmHT模塊排干所有積水。
3. 關(guān)閉或蓋上所有MK-3PharmHT模塊的進(jìn)口和出口,這樣它們就能保持濕潤。
4. 長期停機后,再次運行,MK-3PharmHT模塊也許會要求再生。再生大約需要8-16小時。
五、MK-3 EDI 相較于混床
1、工藝先進(jìn)
2、無需化學(xué)品再生
3、運行成本大幅低于混床
4、連續(xù)運行,操作簡單
5、減少設(shè)備占地空間
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